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涂鍍層測厚儀XDV-µ

涂鍍層測厚儀XDV-µ

簡要描述:
涂鍍層測厚儀XDV-µ;是專為在極微小結(jié)構(gòu)上進行高精度鍍層厚度測量和材料分析而設(shè)計的。該系列儀器均配備用于聚焦X射線束的多毛細管透鏡,光斑直徑(FWHM)可達10至60µm。短時間內(nèi)就可形成高強度聚焦射線。除了通用型XDV-µ型儀器,還有專門為電子和半導(dǎo)體行業(yè)而設(shè)計的儀器。

更新時間:2023-03-16

訪問量:2728

廠商性質(zhì):代理商

生產(chǎn)地址:

涂鍍層測厚儀XDV-µ應(yīng)用:

鍍層厚度測量

1、測量未布元器件和已布元器件的印制線路板

2、在納米范圍內(nèi)測量復(fù)雜鍍層系統(tǒng),如引線框架上Au/Pd/Ni/CuFe的鍍層厚度

3、對大12英寸直徑的晶圓進行全自動的質(zhì)量監(jiān)控

4、在納米范圍內(nèi)測量金屬化層(凸塊下金屬化層,UBM

5、遵循標(biāo)準(zhǔn) DIN EN ISO 3497 ASTM B568

材料分析

1、分析諸如Na等極輕元素

2、分析銅柱上的無鉛化焊帽

3、分析半導(dǎo)體行業(yè)中C4或更小的焊料凸塊以及微小的接觸面

涂鍍層測厚儀XDV-µ特點:

1、Advanced polycapillary X-ray optics that focus the X-rays onto extremely small measurement surfaces

2、*多毛細管透鏡,可將X射線聚集到極微小的測量面上

3、現(xiàn)代化的硅漂移探測器(SDD),確保*的檢測靈敏度

4、可用于自動化測量的超大可編程樣品平臺

5、為特殊應(yīng)用而專門設(shè)計的儀器,包括:

  • XDV-μ LD,擁有較長的測量距離(至少12mm
  • XDV-μLEAD FRAME,特別為測量引線框架鍍層如Au/Pd/Ni/CuFe等應(yīng)用而優(yōu)化 
  • XDV-μ wafer,配備全自動晶圓承片臺系統(tǒng)

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